主要应用于LCD、AMOLED和Mini/Micro LED等高清显示屏制造领域，满足显示制造中薄膜晶体管、彩色滤光片、互联电路或触控电路等工艺制程的曝光图形位置偏差（Total Pitch）、中心偏差（Center Shift）或关键尺寸（Critical Dimension）、套刻（Overlay）的量测需求。