化合物半导体光刻机
主要应用于碳化硅、砷化镓、氮化镓等先进化合物半导体器件制造领域,可满足功率、射频和光电子器件等芯片制造光刻工艺需求。
竞争优势
高分辨率且大焦深
高套刻精度
工艺兼容性强