套刻量测设备
主要应用于集成电路逻辑器件或存储器件前道晶圆制造领域,满足28nm及以下先进制程中在光刻工艺段或刻蚀工艺段对套刻标记进行精密量测的需求。
竞争优势
亚纳米级套刻量测精度
支持处方配置优选参数生成
支持与光刻软件互联